一个万用的金属器官的化学蒸汽免职(MOCVD ) 系统被设计并且构造。铜电影在硅(100 ) 上被扔由用 Cu (hfac ) 2 的化学蒸汽免职(CVD ) 的底层作为一位先锋。由 Cu (hfac ) 2 的 H 2 减小的硅底层上的 Cu 原子核的生长被原子力量显微镜学和扫描电子显微镜学学习。Cu 原子核的生长模式是开始 Volmer 网模式(岛) ,然后到 Stranski-Rastanov 模式(加岛的 layer-by-layer ) 的变换。硅(100 ) 上的 Cu 成核的机制底层被 X 光检查光电子进一步调查光谱学。从 Cu2p, O1s, F1s, Si2p 模式,观察 C=O,哦并且 CF 3 /CF 2 应该属于 Cu (hfac ) 2 的热分

影响因子
0.498
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作者

Song Wu,Bo Tao,Yong-Ping Shen,Qi Wang

期刊

Chinese Journal Of Chemical Physics

年份