室温条件下采用直流磁控反应溅射技术在涤纶纺黏非织造织物表面生长二氧化钛( TiO2) 薄膜。采用X射线光电子能谱仪、X 射线衍射仪和原子力显微镜对不同溅射功率条件下所制备TiO2薄膜的结构和表面形貌进行表征，研究溅射功率对薄膜沉积速率以及沉积纳米TiO2织物光催化性能的影响。实验表明: 在一定范围内，溅射功率对沉积薄膜的化学结构影响不大; 溅射功率增加，薄膜的沉积速率和溅射效率提高，薄膜均匀性、致密性增加，沉积纳米TiO2织物的光催化性能提高，但过高的溅射功率使靶材出现过温，不仅使薄膜沉积速率降低，均匀性下降，而且易损伤靶材