选用V_2O_5为前驱物,通过在玻璃片上镀膜,利用高纯氢作为 气源、高纯氮作为掺杂物,采用微波等离子体增强法,在低温条件下合成了具有优良热致相变特性的氮杂二氧化钒(VO_(2-x)N_y)薄膜.经过退火工艺 的处理,采用XRD、SEM、AFM和相变温度测试对样品进行表征,结果表明:退火后VO_(2-x)N_y薄膜的表面没有太大的变化,但是退火后样品表 面有裂纹出现,薄膜的晶体颗粒大小呈现正态分布,颗粒尺寸较均匀.退火有利于增加其纯度,改善样品结晶度,晶体尺寸长大,并且样品的相变温度降低,幅度约 为8℃.

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作者

陈金民,黄志良,刘羽

期刊

半导体光电

年份