以石英基片为衬底,分别在常压0.1 MPa和500 MPa高压条件下采用原位聚合法制备聚苯胺（PANI）薄膜.通过对PANI薄膜的厚度进行原子力显微镜的直接测量和光谱的间接表征,建立了薄膜厚度df（nm）与薄膜UV-Vis吸收光谱中400 nm处吸收强度A400间的关系：df=548A400（0.1 MPa）及df=341A400（500 MPa）.根据这一关系进一步测量了薄膜的生长曲线,并通过扫描电镜（SEM）形貌观测和电导率测试,研究了原位聚合PANI薄膜在不同合成压力下的生长及导电特性.